台积电史上最高资本支出,ASML成最大赢家

2019-10-31 14:00:20 来源: 半导体行业观察
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台积电在10月17日召开的第3季法说会上,宣布上调资本支出40亿元,由原先的100亿~110亿美元,大幅上调至140~150亿美元,创下台积电单年资本支出的新高纪录。

而早在10月7日,台积电抢在法说会前所发布的1则新闻稿,已悄悄凸显出当前半导体大厂EUV(极紫外光刻)军备竞赛的热度。 新闻稿中宣布,导入EUV微影技术的7纳米强效版(N7+)制程,已于第2季开始量产。 台积电宣称,7纳米制程量产已超过1年的情况下,N7+良率与7纳米已相当接近。 台积电此举被外界解读为,是要向抢先量产EUV但良率似乎不如预期的三星「示威」。
在法说会上宣布新增的40亿美元资本支出,就包含采购多台单价逾1亿美元的EUV微影设备。 台积电企业讯息处资深处长孙又文向《财讯》证实,「除了7纳米之外,所有先进节点如6纳米、5纳米等,都将采用EUV作为制程的一部分。 但浸润式微影仍然是未来所有先进制程节点的重要工具。 」尽管台积电在7纳米以下的更先进纳米制程中,EUV与浸润式微影技术将并重,但未来势必对于EUV机台采购需求看涨。

波长新里程突破摩尔定律

巧合的是,就在10月15日,全球半导体光刻设备龙头ASML(ASML)在法说会前一天,其于欧洲与美国那斯达克(NASDAQ)挂牌的股票,股价分别以243.2欧元与267.54美元,双双创下历史新高纪录,今年以来的涨幅也分别高达逾76%和71%。
为何这个来自荷兰费尔德霍芬市的半导体设备大厂股价会涨翻天? 答案就是: 由ASML独家提供的EUV微影技术,这正是台积电为持续维持技术领先,大力加码投资的新设备。
过去20年,全球半导体厂商都仰赖当时最先进的浸润式微影机台,采用193纳米波长的光刻出电路图案; 然而,随着芯片微缩愈来愈精细,浸润式微影技术已无法应付,导致摩尔定律恐难以再延续。 因此台积电、英特尔、三星等半导体大厂都引颈期盼着,ASML展开研发的波长仅有13.5纳米的EUV微影机台,可以突破浸润式微影机台在半导体制程的技术瓶颈。
然而,EUV微影机台的研发难度更高,研发费用也持续垫高,让ASML愈来愈吃不消,原本应该在2005年就该量产,进度却一再延宕。 为加快EUV研发进度,2012年,英特尔、台积电、三星展开一项创举—向他们的设备供应商ASML投入了大量资金。
当时,3大巨头总共投资高达38.5亿欧元,取得约23%股份,其中英特尔拥有15%、三星取得3%、台积电则有约5%的股份。 英特尔还额外投资ASML的研发计划33亿美元; 三星也为研发计画挹注2.76亿欧元。
经过漫长研发,如今ASML是全球唯一可量产EUV微影设备的大厂,无论三星、台积电、英特尔、中芯国际等半导体大厂,全都要靠ASML生产的EUV微影设备,才能在先进纳米制程中导入EUV微影技术。
随着三星、台积电的EUV制程相继成功投产,英特尔也在加速EUV制程进展,未来还有更多中国半导体大厂也将在EUV制程摩拳擦掌,一场世界级的EUV军备竞赛已如火如荼开打,角色如同「军火商」的ASML自然是最大赢家。
果然,就在10月16日,ASML的第3季法说会上,总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)揭露令外界眼睛为之一亮的消息,「我们在第3季完成7台EUV出货,其中3台是NXE:3400C(产能更大的最新型号)。 同时接到来自逻辑与记忆体客户的23台EUV新订单,不仅让创下我们单季最高订单金额纪录,达51.11亿欧元(折合新台币达1763.8亿元),也证实逻辑和记忆体芯片客户均积极将EUV微影技术导入芯片量产。 总结来说,我们对于2019年的整体营收目标维持不变,今年对于ASML来说仍是成长的1年。


订单纷至第4季毛利惊人


展望第4季,温彼得仍深具信心地表示,预计第4季销售净额将达约39亿欧元(折合新台币达约1346亿元),这将创下历史新高。 此外,第4季毛利率将高达48%~49%之间,大大高于第3季度的43.7%。 利润预期将会提高的主因来自于EUV微影最新型号机台NXE:3400C,具备更高的ASP(平均销售价格)。
孙又文指出,「鉴于明年5G部署的前景更加乐观,在过去的数个月中,对7纳米与5纳米的需求已显著增加,」因此,台积电决定将2019年全年的资本支出增加40亿美元,以满足不断增长的需求。 「在新增的40亿美元资本支出中,约15亿美元用于7纳米产能,25亿美元用于5纳米产能。
而且,孙又文更进一步透露,台积电目前计画明年的资本支出与修订后的2019年资本支出有些相似。 换言之,明年台积电的资本支出也与今年不分轩轾,当中也包含采购更多EUV微影设备的费用。
ASML的前景一片光明,让外资也按赞。
10月16日,摩根大通出具一份报告,给予ASML的评价是优于大盘,并订定年底前目标价为240欧元,此一目标价格是由于预估2025年每股盈余将达18欧元,本益比13倍,「我们提高了倍数,以反映出EUV在市场渗透率上有更好的能见度。 」若观察近期ASML的股价表现,可发现此一论点也颇获市场认同。
若以平均每两年推出1个先进纳米制程估算,以目前可预知的7纳米、6纳米、5纳米、3纳米、2纳米制程,凭借着EUV微影机台,未来ASML至少有10年的好光景。 特别是,随着半导体大厂军备竞赛打得更加激烈,ASML身为全球独家EUV设备供应商,也将更展现出赢者全拿的气势。

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