台积电一个Fab装备18台EUV光刻机，ASML设立EUV培训中心助力
2020-08-21
14:00:44
来源: 半导体行业观察
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工商时报
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晶圆代工龙头台积电下半年全力冲刺5纳米量产，明年还展开3纳米生产线建置，台积电已成为全球拥有最大极紫外光（EUV）产能的半导体大厂，台湾因此成为全球EUV曝光机最大市场。微影设备大厂荷商ASML在南科设立荷兰以外的首座EUV全球技术培训中心20日开幕启用，就近支援台积电及亚太地区客户。
积电中科Fab 15厂及竹科Fab 12厂都有建置EUV曝光机设备，主要提供7+纳米及6纳米晶圆代工，南科Fab 18厂是针对5纳米及3纳米打造的超大型晶圆厂（GigaFab），亦是台积电EUV微影全制程厂区。台积电下半年5纳米进入量产，明年开始建置3纳米生产线，对于EUV曝光机需求大增。据了解，台积电Fab 18厂现阶段已安装18台EUV曝光机，成为全球拥有最大EUV产能的半导体厂。
台积电看好5纳米及3纳米等先进制程未来几年强劲需求，今年资本支出已提高至160～170亿美元，代表对持续增加EUV曝光机采购量。EUV设备大厂ASML为了服务大客户台积电，并就近支援亚太区其它客户，选择在南科设立荷兰以外的首座EUV全球技术培训中心。
ASML全球副总裁暨台湾区总经理陈文光20日在培训中心开幕典礼指出，2010年ASML提供第一台EUV微影设备原型机给台积电进行研发工作，为全球微影技术开创新纪元。2017年ASML交付第一台量产型EUV微影系统给台积电，写下商用EUV制程技术的新里程。台湾EUV曝光机装机规模已领先全球，ASML在南科成立EUV全球技术培训中心，为台湾半导体产业提供更完整的服务。
ASML重申看好EUV曝光机台出货，今年EUV设备产能可支援35台出货量，明年可望再增加至45～50台。由于晶圆代工厂及IDM厂在7纳米及更先进制程需要大量采用EUV技术完成晶圆光罩曝光制程，DRAM厂也开始导入EUV技术，随着台积电、三星、英特尔、SK海力士等国际大厂开始量产，法人看好EUV机台次系统模组代工厂帆宣、极紫外光光罩盒（EUV Pod）供应大厂家登等直接受惠，订单能见度看到年底。
同时，台积电亦藉由干式EUV光罩洁净技术的创新，自2018年导入试产迄今，有效减省水、化学品等能资源使用量，大幅缩短光罩保修频率与时间，除使光罩使用率跃升超过80％，亦延长先进制程EUV光罩寿命，累计创造的改善效益达新台币20亿元。台积电已于今年于Fab 12B厂、Fab 15B厂、Fab 18厂自动化系统导入量产，优化干式EUV光罩技术可分析与清洁小于50纳米落尘。
晶圆代工龙头台积电20日公告将以8.6亿元价格，向太阳能电池厂益通购买南科厂房与附属设施，这是台积电今年第三度购买南科园区邻近公司厂房，且台积电累计已投入逾51亿元在南科买地买厂。
台积电20日公告以8.6亿元价格，向益通光能购买位于台南市新市区南科二路8号的厂房，建物面积约1.3万坪，供营运与生产使用。
台积电于今年5月亦公告以6.6亿元价格，向家登买下位于南科当地的厂房土地，该厂建物面积约达1,956坪。台积电亦于8月12日宣布买下偏光板厂力特南科厂，该厂建坪超过5.4万坪、占地逾2.2万坪，厂房位置就在台积电南科厂隔壁，由于台积电原先就承租该厂部分用地，直接由租转买，传是为了晶圆厂产能扩产预作准备。至于购买益通厂房用途，台积电回应是为了因应南科厂区营运需求。
设备业者表示，台积电在南科设立了Fab 14厂及Fab 18厂等两座超大型晶圆厂，其中，Fab 18厂已完成5纳米共3期晶圆厂建置，总月产能约达9万片。台积电将在Fab 18厂区继续兴建另外3期晶圆厂，并建置3纳米生产线，预计2022年完成后陆续进入量产，2023年3纳米共3期晶圆厂将可带来每月9万片的产能。
台积电在7月中旬法人说明会中宣布将调升今年资本支出10亿美元达160～170亿美元，与去年相较增加约13％，主要是看好未来几年在5G及高效能运算（HPC）的强劲晶圆代工需求，所以台积电仍会维持高资本支出策略，并加速5纳米量产及3纳米技术研发及产能建置。
台积电5纳米下半年以最快速度拉升产能，并进入大规模量产阶段，主要为苹果代工A14应用处理器，而苹果首款Arm架构Macbook处理器A14X预计年底前会采用台积电5纳米量产。另外，台积电5纳米强效版会在2021年开始量产，5纳米优化推出的4纳米制程会在2022年进入量产，为5纳米提供了一个明确的升级路径。
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