半导体行业观察:本周,TIN调研公司主席Robert Castellano称,过去三年,EUV光刻机被几大芯片制造巨头(包括IDM和Foundry)抢破头,这使得光刻机巨头ASML出尽了风头。
半导体行业观察:日前,台积电宣布7纳米强效版及5纳米导入EUV微影技术且成功量产入市后,南韩媒体报导,三星向半导体设备大厂艾司摩尔(ASML)下订15台EUV设备
半导体行业观察:AI、5G应用推动芯片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,半导体设备商遂陆续推出新一代方案。
昨日,上海市经信委消息称。为贯彻落实党的十九大“加快建设制造强国,加快发展先进制造业,推动互联网、大数据、人工智能和实体经济深度融合”的战略部署,以及市委市政府“推动制造业高质量发展”的工作部署,
3D NAND的位出货量现在已经超过了2D NAND。并且正在迅速成为NAND Flash存储器的主导形式。
半导体行业观察:国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收,这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。
半导体行业观察:虽然芯片制造商希望能够尽快在7nm和5nm工艺中普及极紫外线光刻技术,也就是我们通常所说的EUV,但是,现实往往是残酷的!
半导体行业观察:不久前,高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造,具体来说是7nm LPP,使用EUV(极紫外)技术。
在当前半导体制程已经微缩到10 纳米以下之际,大家都寄望借助极紫外光微影设备(EUV) 能协助制程向前发展,也使得摩尔定律(Moore& 39;s