南大光电拟募集1.5亿元投建光刻胶项目

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近日，南大光电发布公告披露向特定对象发行股票预案。本次发行对象为不超过35名符合证监会规定的特定对象，募集资金总额不超过63,500.00万元，扣除发行费用后的净额将用于光刻胶项目、扩建2000吨/年三氟化氮生产装置项目、补充流动资金。

从其公告中看，在总募集计划当中，光刻胶项目的募集资金为1.5亿元。

据其公告显示，2017年起，南大光电先后承担国家“02专项”高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发、ArF光刻胶产品开发与产业化项目，历经3年艰苦奋斗，公司率先制备出国内首款ArF光刻胶产品，满足产业化的技术条件，具备领先性。

本次募投项目包含“先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化”、“ArF光刻胶产品的开发和产业化”，通过募集资金对光刻胶业务的投资建设，公司将达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，产品性能满足90nm-14nm集成电路制造的要求，实现高端光刻胶生产的完全国产化和量产零的突破，提升我国高端光刻胶这一领域的自主可控水平。

按照南大光电的项目计划来看，该项目目标到 2021 年底，将在我国：1）首次建立 ArF 光刻胶产品大规模生产线，形成年产 25 吨 ArF（干式和浸没式）光刻胶产品的生产能力，产品性能满足 90nm-14nm 集成电路制造的要求。产品通过 IC 芯片制造企业的使用认证，实现批量销售；2）建立国内第一个专业用于 ArF 光刻胶产品开发的检测评估平台。江苏南大光电材料股份有限公司 2020 年度向特定对象发行股票预案 21 平台配备 ArF 光刻机、涂胶显影一体机、特征尺寸扫描电镜、缺陷检测和分析等检测设备，满足先进光刻胶产品和技术开发的需求；3）建立一支具有国际水平的先进光刻胶产品开发和产业化队伍。

南大光电认为，长期以来，国内高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断。全球行业前四大光刻胶厂商合成橡胶、信越化学、东京应化以及住友化学均为日系厂商，全品类半导体光刻胶中日本厂商占据了70%的市场份额，分品类来看，日本厂商在ArF、KrF、g线/i线胶市场中市占率分别为93%、80%、61%，其在高端市场中展现出极强的控制力。由于国内光刻胶起步晚，目前技术水平相对落后，与国外行业巨头仍存在较大差距，生产产能主要集中在PCB光刻胶、LCD光刻胶等中低端产品，但高端光刻胶中ArF浸没式光刻胶是集成电路28nm、14nm乃至10nm以下制程的关键，而我国高端光刻胶几乎处于空白状态。高端光刻胶作为芯片制造关键材料，长期为国外企业垄断，对我国芯片制造具有“卡脖子”风险。因此，尽快实现高端光刻胶的全面国产化和产业化具有十分重要的经济价值和战略意义。

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