ASML确认，EUV光刻机产能将提升

于半导体生产中，光刻机是核心设备，不仅决定了芯片制造的制程水准，亦为耗时最多、成本最高的一步，目前先进的7nm、5nm及接下来的3nm制程皆需要EUV光刻机，即使一台要价不菲，仍是供不应求。

EUV光刻机目前仅有荷兰ASML可以生产，其产能将决定全球先进制程扩张的速度。日前，ASML资深副总裁Christophe Fouquet于高盛会议上确认，将增加EUV光刻机的产能。

ASML原本预计2025年的EUV光刻机年产能为70台，现在决定提升至每年90台，有助于纾解产能不足的问题。

今年第二季尚未结束，ASML即收到了超过100台EUV光刻机的订单，此已大幅超过了其产能。ASML今年原计划出货EUV光刻机不过55台，仅能满足一半的订单量，客户皆需排队等待。

南韩媒体报导，三星电子副董事长李在镕将从荷兰商ASML)取得额外极紫外微影曝光设备(EUV)，对三星下一代半导体生产至关重要。不过三星没有透露这些额外EUV 微影曝光设备细节。

南韩媒体《BusinessKorea》报导，三星15 日表示，李在镕在半导体事业暨装置解决方案事业部(DS) 部长庆桂显陪同，当地时间6 月14 日在荷兰Veldhoven 的ASML 总部会见ASML 执行长Peter Wennink 和技术长Martin van den Brink 等高层，双方就未来半导体技术、半导体市场前景、EUV 微影曝光设备供应以及未来中长期业务广泛讨论。

三星需确保EUV 微影曝光设备稳定供应，才能超越台积电，成为全球晶圆代工龙头。目前EUV 设备被ASML 垄断，年产量有限，三星想取得比ASML 最大客户台积电更多设备并非易事。

2000 年代以来，三星一直与ASML 合作半导体制程技术和设备开发。2012 年三星投资ASML 股权，加强与ASML 的关系。2016 年11 月ASML 高层拜访三星，说明下一代EUV 微影曝光技术发展，并就中长期投资计划发表意见。

李在镕出访荷兰期间，14 日也会见荷兰首相。三星表示，双方讨论加强半导体代工能力和解决全球半导体供应链合作。三星强调，李在镕请求荷兰首相支援，确保ASML 的EUV 微影曝光设备稳定供应。

ASML 是唯一一家拥有先进工艺制造所必需的 EUV（极紫外）曝光设备的公司。该公司的 Martin van den Brink 在日前的VLSI大会上做了题为“Holistic Patterning to Advance Semiconductor Manufacturing for the 2020s and Beyond”的演讲。虽然小型化的极限被窃窃私语，但他断言“半导体创新的价值创造暂时不会放缓。摩尔定律不会在可预见的未来停止。”

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