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ASML谈EUV光刻的过去、现在和未来

2021-03-27 14:00:34 来源: 半导体行业观察

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来源：内容转载自公众号「光刻人的世界」，作者： Jos Benscho，谢谢。

编者按： 极紫外（EUV）光刻技术自20世纪80年代中期以来已经取得了长足的进步。2019年，首款由EUV光刻制造芯片的商用智能手机投入使用，这表明EUV已经进入大批量生产阶段。在本视频中，首先将简要回顾光刻机和相应基础设施中有已被克服诸多技术障碍。接下来，将介绍0.33数值孔径光刻机的现状和基础设施，以及它对半导体行业的影响。EUV技术的下一步将是实现0.55数值孔径EUV光刻机，该项目正在进行中。在完成第一台NA=0.55光刻机后，预计在光刻机、掩模和光刻胶方面将有进一步的创新，它们将进一步降低k1系数，并使收缩率在下一个十年得以延续。进一步地，向更小波长/更大数值孔径的转变也都在探索之中，它们将带来重大的技术和业务挑战。

<iframe allowfullscreen="" class="video_iframe rich_pages" data-cover="http%3A%2F%2Fmmbiz.qpic.cn%2Fmmbiz_jpg%2FLwTQD3a8aGTuXCbukCkVeQMHcOUEz2KZiaPq7KyuGyZaPhLpMQs6lyVSmB8cUbAcuyuZCTHAdLCM6GudGGhl4og%2F0%3Fwx_fmt%3Djpeg" data-mpvid="wxv_1797756775983562754" data-ratio="1.7777777777777777" data-src="https://mp.weixin.qq.com/mp/readtemplate?t=pages/video_player_tmpl&action=mpvideo&auto=0&vid=wxv_1797756775983562754" data-vidtype="2" data-w="1280" frameborder="0"> </iframe>

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