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据seekingalpha报道。半导体行业正在蓬勃发展，并且芯片制造商在过去两年中一直在提高产能利用率，并有望在2021年进一步提高利用率以满足需求。
苹果芯片制造商台积电的首席执行官之前在给客户的一封信中表示，该公司的晶圆厂过去一年的利用率一直在100％以上，但需求仍然超过供应。
尽管芯片制造商已经转向寻找能迅速解决问题的方案，例如提高产能利用率和软件升级以提高短期产量，但从长远来看，必须提高全球晶圆厂产能，以满足仅靠提高利用率无法满足的芯片需求增长。
正如大家所熟知的一样，近年来人工智能，物联网，5G，电动汽车（EV）等新兴技术的火热，将推动对具有更好性能的大量多样半导体的长期需求。为此半导体制造商正在建设能力以应对IC Insights所说的“黄金机遇”。作为全球最大的晶圆代工厂，台积电将在三年内花费创纪录的1000亿美元用于增加产能。
台积电表示，这种资本支出并不是针对当前芯片短缺的情况，而是一项长期投资，利用了未来几年先进芯片的预期需求增长，据报道，台积电看到了更多5nm和3nm客户的参与。
“我们始终与客户紧密合作，我们并不是投机。” -台积电强调。
同时，英特尔（NASDAQ：INTC）于3月份宣布代工复出，从而改变了战略，旨在满足全球芯片需求的预期增长。英特尔将斥资200亿美元在亚利桑那州建立两家工厂，以制造领先的处理器，以抓住这一机遇。
三星在5月13日表示，到2030年，将在非存储芯片领域投资1510亿美元，较2019年宣布的投资目标大幅提高。该公司透露，其位于首尔南部的工厂第三条芯片生产线将于2022年下半年完工。此外，SK海力士（SK Hynix）等其他韩国芯片制造商也在大举投资。
IC Insights预计三星的资本支出将达到约280亿美元，再加上台积电的资本支出，预计这两家公司仅今年就将至少支出550亿美元，占整个半导体行业资本支出的43％。
其中，半导体设备将占据这一支出的主要份额。换而言之，这些支出中的很大一部分将用于半导体制造设备，而新一代的芯片将使该设备变得更加昂贵。
在这种有利气候下的受益者是芯片设备制造商。芯片设备市场由应用材料，ASML，Lam Research，KLA Corporation和Tokyo Electron 主导，他们垄断了超过70％的市场。特别是ASML处于有利地位。
半导体的典型特征是芯片上每个晶体管之间的距离，单位为纳米（NMs）。差距越小，芯片制造过程就越复杂，并且随着智能手机和设备对性能的要求越来越高，以处理诸如AI功能之类的新技术，前进的道路是将越来越多的晶体管塞入这些芯片中。反过来，这要求对新的前沿制造工艺进行更大的投资。
例如，台积电今年承诺的资本支出为280亿美元，比去年增加了近100亿美元。其中约80％将用于公司最先进的芯片制造工艺——7nm，5nm和3nm。
台积电没有透露要购买哪种设备。但是，考虑到超过7nm，芯片制造商严重依赖EUV（下一代光刻技术）光刻机，可以肯定地说，其中很大一部分支出将用于EUV机器。台积电的N7 +是该公司利用EUV光刻的第一个节点，该公司的N5工艺可能将严重依赖EUV。
几年前，主要的芯片制造商开始充分利用EUV技术，ASML是EUV机器的唯一生产商，以100％的市场份额占据垄断地位。在未来几年中，随着对高端芯片（例如用于5G智能手机的芯片）需求的增加，导致EUV机器的普及，ASML成为半导体升级周期的主要受益者。
在过去的几年中，EUV的渗透率一直在增长，并且势头正在增强。台积电是第一家使用ASML的EUV光刻机进行大批量生产的公司，声称拥有全球EUV装机量的50％以上和行业EUV晶圆累计产量的60％。
台积电为了保持领先地位，已订购了至少13台ASML机器，这些机器定于今年交付。随着该公司继续其激进的资本支出计划，它看起来将继续保持该容量领先优势，同时其他芯片制造商也将追赶。
急于追赶台积电的三星，它目前在EUV装置方面落后于台积电（据行业认识称，三星拥有的EUV光刻机约为其较大竞争对手台积电的一半）。
三星使用EUV生产一些DRAM和7LPP，但是随着三星扩大EUV在逻辑和基于EUV的DRAM中的使用，公司未来几年的EUV购买量预计会增加。据报道，英特尔也计划部署EUV系统，以使用其7nm节点制造芯片，这在未来几年将进一步增加到ASML的订单中。同时，DRAM巨头SK海力士（SK Hynix）计划在批量生产中使用EUV。美光公司预计也将在几年内部署EUV。
因此，预计未来几年对EUV工具的需求将会增加。但是，由于ASML每年的生产能力只有大约50多个EUV系统，因此ASML处于相当令人羡慕的位置，需求可能超过生产和安装能力。据了解，仅去年一年，三星就从ASML订购了20台新机器，这是这家韩国巨头努力实现超越台积电的雄心勃勃目标的一部分。他们计划在2022年之前实现3nm芯片的批量生产，以便更快地交货。
去年，公司在收入，营业利润和净收入增长了两位数。ASML在2020年的销售额创历史新高，接近140亿欧元，同比增长18％。该数字包括31辆EUV系统的出货量，产生了45亿欧元的收入。在几年一季度，ASML营收为44亿欧元，同比增长78.8%，环比增长2.6%；净利润为13亿欧元，同比涨幅高达240.4%，环比下滑1.5%，净利润率为30.5%。
据财报显示，ASML今年第一季度总共收到47亿欧元订单，其中EUV（极紫外）光刻系统收入为23亿欧元。
展望未来，随着芯片制造商越来越多地投资于先进的芯片制造技术，该公司EUV设备的出货量将继续保持上升趋势，这将占ASML收入的更大份额。
据预测，ASML的EUV设备出货量将在2021年增加到40台，在2022年增加到53台，在2023年增加到56太。这将推动收入增长。以1.45亿欧元（约合1.75亿美元）的单价计算，这意味着EUV系统在2021年的收入将同比增长28％。管理层预测，EUV系统的销售额今年将增长30％，达到58亿欧元。
随着年出货量继续呈上升趋势，随着EUV机器的安装基础不断增加，ASML的服务收入也将继续呈上升趋势。服务收入从2019年的28亿欧元增长到2020年的36亿欧元，同比增长28％。
然而，潜在的收益并不仅限于EUV。每个EUV机器订单也驱动DUV需求（ASML再次成为DUV市场的市场领导者，市场份额超过80％）。到2020年，ASML产生了价值54亿欧元的DUV系统，其中包括68台浸入式系统（最先进的DUV机器），产生了40亿欧元的收入。
同时，得益于EUV出货量的增加，公司的毛利率从2019年的44.6％上升到48.6％，EUV出货量从2019年的26台上升到2020年的31台。
总体而言，ASML在盈利能力，收入增长和杠杆率方面均领先于竞争对手。KLA Corporation和Lam Research的杠杆相对较高，而Tokyo Electron的净利润率则落后于同行。尽管与ASML相比，Applied Materials的利润率略高一些，而债务负担相对于股票而言却略多于一半，但它在ASML方面的跟踪非常严格，这可能反映了其在光刻市场上的垄断地位。
开发当前的EUV技术花费了数十亿美元的资金，在可预见的未来，没有可行的竞争对手威胁ASML的近乎垄断地位。随着芯片变得越来越先进，芯片制造领域正变得越来越集中在最适者中，他们很少能够维持必要的资本支出以在迅速发展的半导体技术中保持竞争力。就资本支出和能力而言，英特尔曾一度是领先的少数半导体制造商之一，但现在似乎在努力与当前的领先者三星和台积电保持同步。
半导体设备市场也正在出现类似的趋势。ASML在DUV中的两个主要竞争对手尼康和佳能都没有足够的数量来证明他们拥有与ASML相当的研发水平，导致他们都放弃了各自在下一代光刻技术上的努力。另一方面，ASML继续关注它，现在看起来有望成为这一结构性上升趋势，成为市场上唯一的EUV系统供应商。
不过对ASML来说，依然有一些不确定因素。那就是中国。
2020年，中国市场占ASML销售额的16％，而2019年同期为11％，这使中国大陆成为ASML仅次于台湾和韩国的第三大市场。这些销售大部分是针对较旧的机器（不是中国芯片制造商一直试图购买的最新EUV机器，但由于美国施加出口限制而被拒绝）。
但是，据之前的报道。美国也可能会对DUV机器的销售施加进一步的限制。一份报告表示，美国国家人工智慧国家安全委员会（National Security Commission on AI）在早前发表的一份公告似乎建议，应调整美国，日本和荷兰的出口管制政策，以限制高端半导体设备向中国的出口，“特别是极端紫外线光刻（EUV） 设备和能够在16nm节点及以下制造芯片的氟化氩（ArF）浸没式光刻设备”。
因此，ASML在中国存在营收风险。但是，这可以通过诸如台积电和三星等其他公司填补空缺的可能性来缓解。
与此同时。中国并没有最一代比。中国政府正投入数十亿美元建设国内半导体技术，以减少对美国技术的依赖。所有这些投资都在引发新芽，这些新芽可能会成长为未来的挑战者，
太白说，中国玩家要赶上ASML可能还需要很多年。但是，他们一直在前进，不能排除中国挑战者的可能性。中国国内企业的优势在于庞大的国内市场，高度支持的政府以及本地设备制造商的现成客户基础，这些设备制造商对被列入美国实体名单的前景不满意，正在寻找非美国替代品; 例如，高通公司去年在中国的移动芯片组市场的份额同比下降了48.1％，输给了台湾移动芯片供应商联发科技MediaTek。市场份额的急剧变化主要是由美国政府对华为发动的制裁所推动的，这也驱使小米，Oppo和Vivo等本地智能手机制造商启动了应急计划，并争先恐后地实现了多元化。供应链，避免成为下一个华为。
然而，这种情况可能还需要几年的时间，到那时ASML可能已经发展到更先进的技术（ASML的下一代EUV技术，即高NA，其目标是在2023年达到3nm）。
ASML公司CEO本月初在ASML荷兰总部接受媒体采访时表示：“如果你采取出口管制措施将中国市场拒之门外，这将迫使他们争取技术自主权……在15年的时间里，他们自己将能够做出所有的这些东西，而且他们的市场（针对欧洲供应商的市场）将彻底消失。”
不过我们应该可以确定，中国厂商还有许多工作要做，在此之前，ASML有望保持其在光刻市场上的主导地位。
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